在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)（或濺射），使其沉積在被涂覆的物體（稱基片、基板或基體）上的方法稱為真空鍍膜法。在材料表面上，鍍上一層薄膜，就能使該種材料具有許多新的物理和化學性能。過去在物體表面上鍍膜作為物體表面改性的一種方法，多采用濕式鍍膜法，即電鍍法和化學鍍法。電鍍法中被電解的離子鍍到作為電解液另一個電極的基體表面上。因此，這種鍍膜的基體應是良導體，而且膜層厚度難于控制，化學鍍法是應用化學還原原理，使鍍膜材料（稱膜材）溶液迅速參加還原反應，沉積在基體上。這兩種方法不但膜的附著強度差，膜層厚度不均，而且還會產(chǎn)生大量的廢液而造成公害。因此它們在薄膜制備工藝上受到了很大的限制。
真空鍍膜法是一種新的鍍膜工藝，由于薄膜制備工藝是在真空條件下進行的，故稱真空鍍膜法。亦稱干式鍍膜法。它與濕式鍍膜相比較具有如下特點：
1、真空下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的涂層。
2、膜材和基體材料有廣泛的選擇性，薄膜厚度可進行控制，可以制備各種不同的功能性薄膜。
3、膜與基體附著強度好，膜層牢固。
4、不產(chǎn)生廢液，可避免對環(huán)境的污染。
