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真空電鍍(PVD)的基本原理
2009-05-26 01:03:03
來(lái)源:
電鍍行業(yè)網(wǎng)
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真空
電鍍
(PVD)的基本原理
惰性氣體或反應(yīng)氣體電離為氣體離子,氣體離子因靶(所謂靶是IP電
鍍的消耗材料)的負(fù)電位形成定向運(yùn)動(dòng),轟擊固體靶材表面進(jìn)行能量
交換,使靶材獲得能量濺射出靶原子或分子,在電場(chǎng)加速運(yùn)動(dòng)下產(chǎn)生
物*象沉積(PVD)于所電鍍產(chǎn)品表面,形成電鍍層。
PVD表面處理特點(diǎn)是:
1、 光澤度好
2、 無(wú)鎳
環(huán)保
3、 延長(zhǎng)基本壽命1~2年
與普通水電鍍對(duì)比:
處理方式
IP
水電鍍
電泳漆
光澤度
好
好
一般
抗腐蝕性
好
一般
好
耐磨性
優(yōu)良
一般
差
品質(zhì)保證
1~2年
3~6個(gè)月
3個(gè)月
關(guān)鍵詞商機(jī)
:
機(jī)械加工制造
包裝機(jī)械
工程機(jī)械
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